Intel omija problemy z EUV
1 marca 2010, 15:59Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.
Farmy słoneczne i wiatrowe mogą wspomóc szatę roślinną Sahary i Sahelu
7 września 2018, 10:10Nowe badania, bazujące na modelach klimatycznych, sugeruje, że zainstalowanie na Saharze i Sahelu wielkich farm słonecznych i wiatrowych, zwiększyłoby lokalne temperatury, opady i wegetację. Całościowy wpływ takich instalacji były najprawdopodobniej korzystny dla regionu.
